BloombergのデータをまとめたDigiTimesのレポートによると、中国は半導体セクターの発展において大きな進歩を遂げ、現在では製造装置の40％以上が国産化されている事が明らかになった。成長率はわずか2年で倍増しており、大規模な研究開発投資と政府支援の後押しが奏功していることが見て取れる。しかし、現状では中国企業は競争力のあるスキャナーを生産するのがやっとであり、リソグラフィ・ツールに関しては依然として、海外製品に依存しているのが実状だ。
韓国メディア『Ddaily』が最近報じたところによると、中国が半導体装置分野で自立を推進しているため、国産化率が40％以上に急上昇しているとのことだ。この割合は、物理蒸着（PVD）や酸化などの特定分野では50％を超えている。
中国の半導体産業の成長は数字だけではない。それを達成するために、大規模な投資が行われてきた。中国の半導体製造チェーンの様々なセグメントの中でも、装置メーカーは研究開発への投資が最も多く、際立っている。過去2年半の間、これらのメーカーは常に売上高の10%以上を研究開発に投資してきた。
特に、Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc China（AMEC）とNaura Technologyの2社は、この研究開発推進の最前線にいる。AMECは過去2年半で平均13％以上の研究開発比率を維持しており、Naura Technologyは売上高の11％を研究開発活動に充てている。AMECもNauraもエッチングと蒸着用のツールを専門としている。対照的に、受託チップメーカーのSMICと半導体組立・テストアウトソーシング（OSAT）は、研究開発費を売上高の10%に抑える傾向にある。
中国の半導体セクターは目覚ましい成長を遂げているが、オランダや日本企業のリソグラフィ・スキャナーを置き換えるという重要な課題は解決されていない。国営企業である上海微電子設備集団（SMEE）は今年初め、2023年末までに28nmプロセス技術でチップを生産できる初のスキャナーを導入すると約束したが、同社がこれらのスキャナーをいつ大量生産できるのか、ASML、Canon、Nikon製のスキャナーをいつ置き換えるのかは未知数だ。今のところ、中国におけるリソグラフィ装置の現地化率は1桁台であると報告されている。
中国の半導体進歩にはいくつかの要因がある。広大な国内市場と政府の強力なバックアップが、必要な原動力となっている。加えて、中国の強力な研究開発能力と資本市場からの資金援助が、半導体自立への道をさらに後押ししている。
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