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日本政府、Micronの広島EUV工場への補助金を1920億円に増額

経済産業省が、広島にあるMicronの工場に対する補助金を最大1920億円に増額する事が明らかになった。この増額は、同社が予定通りに工場を建設することを保証するものである。日本政府にとって、この補助金は、日本の半導体技術を強化するために様々なチップ企業に投資された数十億円を含む、より広範な計画の一部である。

Micronが広島の工場に対する465億円の補助金を確保したのは、ほぼ1年前のことだ。一方、Micronの新しい生産施設への投資総額は約5000億円になる予定だった。465億円は大金ではあるが、Micronが2022年の水準に比べて資本支出を減らしていることを考えると、十分ではないかもしれない。日本経済新聞によると、その結果、Micronと日本政府は補助金を増額することで合意に達したようだ。

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(Credit: Micron)

Micronは、2026年までに極端紫外線(EUV)リソグラフィに依存する1γプロセス(第3世代10nm級ノード)による高性能メモリーチップの量産開始を目指しており、早急に資金を必要としている。

同省の構想はMicronだけにとどまらない。2年間で2兆円の予算が、半導体投資に関連する補助金として計上されている。網の目を広げると、台湾のTSMCは熊本のファブ事業に対して最大4,760億円を受け取る。さらに、三重県にあるKioxiaと米Western Digitalの共同事業には、929億円の補助金が交付される。

半導体企業へのこの大幅な資金注入は、海外チップサプライヤーへの依存を減らし、国内半導体部門を再建するという日本のコミットメントを強調している。日本は、国内の能力を強化することによって、国際的なサプライチェーンの中断に関連する潜在的なリスクを回避し、それによって重要な技術部品の円滑かつ強固な国内供給を確保することを目指している。


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